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NOVOTEK HE500是硫酸-雙氧水類微蝕液用的添加劑,用于處理印刷電路板的銅表面,特別適合于溶解大量銅的蝕刻,尤其適用于HDI低范圍蝕刻量調(diào)整方面的應(yīng)用。

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產(chǎn)品特點
*僅需消費少量的雙氧水便能蝕刻銅。
*與以前的硫酸雙氧水類微蝕液相比較,僅需消費少量的雙氧水便能溶解銅。
*雙氧水的穩(wěn)定性出色。
*因為雙氧水的穩(wěn)定性出色,所以無需進行多余的雙氧水分解。
*易于控制蝕刻量。
*與利用氯化鐵和氯化銅的蝕刻相比較,易于控制微小的蝕刻量。
*微蝕速率可達10μm/min

產(chǎn)品型號:

產(chǎn)品代碼

產(chǎn)品名稱

包裝規(guī)格

備注

TP15031

減銅劑HE500

20L/

穩(wěn)定,高速減薄銅工藝




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