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NOVOTEK HE500是硫酸-雙氧水類微蝕液用的添加劑，用于處理印刷電路板的銅表面，特別適合于溶解大量銅的蝕刻，尤其適用于HDI低范圍蝕刻量調(diào)整方面的應(yīng)用。

產(chǎn)品特點：
*僅需消費少量的雙氧水便能蝕刻銅。
*與以前的硫酸—雙氧水類微蝕液相比較，僅需消費少量的雙氧水便能溶解銅。
*雙氧水的穩(wěn)定性出色。
*因為雙氧水的穩(wěn)定性出色，所以無需進行多余的雙氧水分解。
*易于控制蝕刻量。
*與利用氯化鐵和氯化銅的蝕刻相比較，易于控制微小的蝕刻量。
*微蝕速率可達10μm/min。

產(chǎn)品型號：